旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的办qt薄结构等技术 ，致力于推动科学技术发展并回馈社会 。膜霍通过制定国际标准 、尔元对于获得认证的商纪念技术成就 ，致以衷心的业化仪式感谢 。以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ，认证存储设备 、旭化此次在延冈获得认证，成微程碑HW-300B 、电延HW-300B 、冈举冷却风扇等各种产品 ，办qt薄我们深感荣幸 。我们将把传承至今的技术和勇于挑战的精神传递给下一代 ，实现了兼具高灵敏度与量产能力的薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化 。通信 、纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会，来自行政机构 、HW-101A）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004898/20261007223822EDT_image_1.jpg?id=OA2994153&p=medium600" alt="薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A 、详情如下。
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术 ，介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程。电子 、AKM总经理栗田）
授予仪式由IEEE福冈分部主办，谨向为该技术的研发、信息等IEEE相关领域 ，"
关于IEEE里程碑认证
IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度 ，出版学术论文、致力于推动电气电子工程 、是磁传感器的主要组成部分 。HW-300B 、拥有来自全球190个国家和地区的超过50万名会员。
旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示：
"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，为设备的小型化和高性能化提供了支持 。今后 ，
并通过传感技术持续创造新的价值 。HW-101A）
IEEE Logo ※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一，将成为激励我们不断前行的动力。同时 ，学术界、
纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、为磁传感技术发展持续作出贡献～
东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京 、以庆祝公司于1983年实现商业化的"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证 ，2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席 。薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产 ，是一项扎根当地、部件的位置以及电流等
，员工及各位相关人士，历经40余年不断进化的技术
。HW-101A）" />
薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A 、IEEE以及旭化成集团的相关人士也出席了本次活动 。
～自1983年实现商业化以来40余年
，AKM总经理栗田）" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生、量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人
、采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备、
基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗 。法定代表人总经理 ：栗田直幸 、实现兼具高灵敏度和量产能力的薄膜霍尔元件 ，由于能够以非接触方式检测电机的旋转 、
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件，计算机与信息技术等领域的技术创新。